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上海沃埃得贸易有限公司 
| 联系人：顾云飞 先生 (销售经理) |
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| 电 话：021-66621559-806 |
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| 手 机：13564129066 |
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| 供应激光直写机 |
小型激光直写机
激光直写机用于CAD到基板的直接精确套写。既可作为常规的套写工具也可用于特定规格的定制系统。LW405B是LW405A的升级版，它包括Windows7用户界面，全数字摄像机、XY激光干涉机以及数项附加软件功能。
改系统由三部分组成：
直写单元
控制单元
LaserDraw 软件包
每个部分的详细技术介绍参见以下介绍
应用包括直接基板套写及微电子掩膜制造、微波电路、太赫兹技术、微机械、微流体、石墨和纳米管技术等。
所述规格皆可定制
LW405-A 激光直写型号 标准型 紧凑型 台式 选配
*大工作区域(mm)
激光直写机的工作区域可匹配各类掩膜或基板尺寸。包含一个真空仓（仓体表面通常根据客户要求定制）。基板尺寸可以大于或等于工作区域。 150x150
(6”x6”) 150x150
(6”x6”) 50x50
(2”x2”) up to 350x350
定位精度 (µm)
这一参数代表的是在整个工作区域的绝对定位误差以及由于不同的掩膜或工艺水平所可能导致的特征重叠。但这与所达到的分辨率无关，如*小线宽。 ± 0.1 ± 1 ± 1
XY 激光干涉仪
10 nm分辨率 Yes No No
*小线宽(µm)
*小线宽操作者可以在0.8、2、4或8 µm间进行选择。对于高密度互联或微波电路的快速直写，可选择一个极低分辨率的模式（10m）。 0.8 0.8 2
曝光波长 (nm)
直写光束的标准波长为405nm（来源于GaN固体激光）。对于生物化学应用可选配325nm波长（来源于He-Cd 气体激光）。 405 405 405 325, 375, 405&375
防护层曝光
包含所有标准的含防护层的膜（铬或氧化铁）。除了掩膜直写，本系统也适用于在*终基板上进行无膜直接套写（硅、GaAs、InP、微波低温生物学基板等）。 Yes Yes Yes -
在LDW 玻璃上曝光
LW405能套写过程基板如激光直写（LDW）玻璃膜（详见http://www.canyonmaterials.com/ldw.html） Yes Yes Yes -
曝光能量稳定剂
持续监测曝光水平使其在整个直写过程中保持稳定。对于灰度曝光，持续保持参考水平。 Yes Yes Yes -
灰度能力
也提供可变的像素对像素曝光（灰度套写）用于制造衍射光学和MEMs等。 Yes Yes Yes -
可变分辨率
显微光刻步骤中，有些过程可以利用减少的平面分辨率。典型的例子是使用粗糙表面作为基板（如：铝）。激光直写系统分辨率的改变是通过替换光束聚焦器件来实现，过程只需几秒钟。 Yes Yes Yes -
洁净室组装
每个光学器件、机械及电子子系统在组成激光直写单元之前都经过仔细的清洗消毒。每个单元都是在洁净室内进行组装及测试，以此将在操作环境中颗粒释放的可能性降到*低。 Yes Yes Yes -
用作基板检查站
每套系统包括一个CCD摄像头以及相关的照明系统。使操作者可以使用激光直写作为一套表面检查和计量的系统。还包含一个高分辨率的电子摄像头以及相关的在线图像捕捉和处理系统。 Yes Yes Yes - |
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